頤光科技為您精選了多款光譜橢偏儀、反射膜厚儀自研產(chǎn)品。

ME-L是一款全自動(dòng)高精度穆勒矩陣光譜橢偏儀，擁有行業(yè)前沿的光路調(diào)制技術(shù)，采用半導(dǎo)體制冷式探測(cè)器，具有超高靈敏度和極快的信號(hào)采集速度，同時(shí)也包括消色差補(bǔ)償器、雙旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器同步控制、穆勒矩陣數(shù)據(jù)分析等。

ME-Mapping光譜橢偏儀可以滿足大尺寸晶圓的多點(diǎn)自動(dòng)化掃描測(cè)量需求，自定義繪制測(cè)量路徑，支持實(shí)時(shí)顯示膜厚分布以及數(shù)據(jù)匯總。設(shè)備采用雙旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器調(diào)制技術(shù)，直接測(cè)量16階穆勒矩陣，可獲取更多樣件信息。具有寬光譜消色差補(bǔ)償技術(shù)以及儀器精密校準(zhǔn)算法，大大提升測(cè)量準(zhǔn)確度和精度，廣泛應(yīng)用于設(shè)備廠商/Fab級(jí)鍍膜均勻性快速測(cè)量表征。

SE-VM光譜橢偏儀可實(shí)現(xiàn)科研/企業(yè)級(jí)高精度快速光譜橢偏測(cè)量，支持多角度，微光斑等高兼容性靈活配置，多功能模塊定制化設(shè)計(jì)，廣泛應(yīng)用于光通訊/OLED/TP/透明導(dǎo)電膜等涉及透明襯底鍍膜測(cè)量表征應(yīng)用。

SR-C反射膜厚儀采用微納米薄膜光學(xué)創(chuàng)新測(cè)量技術(shù)，應(yīng)用于各式光學(xué)薄膜膜厚快速表征。

SR-Mapping反射膜厚儀利用反射干涉的原理進(jìn)行無(wú)損測(cè)量，提供半導(dǎo)體級(jí)Mapping測(cè)量解決方案，應(yīng)用于成膜設(shè)備/Fab級(jí)鍍膜等大尺寸薄膜均勻性自定義多點(diǎn)分布測(cè)量。

SR-M顯微膜厚儀采用微米級(jí)聚焦光斑，同時(shí)利用顯微物鏡定位測(cè)量點(diǎn)，針對(duì)特定微小區(qū)域?qū)崿F(xiàn)微區(qū)厚度精準(zhǔn)表征。

EOF系列膜厚儀采用Mapping測(cè)量機(jī)臺(tái)，支持多種測(cè)頭參數(shù)定制，配備圖像識(shí)別功能，一鍵完成整片自動(dòng)測(cè)量。